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浅谈真空镀膜的特点有哪些？

     在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
    丹阳荣可达电镀有限公司的真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜的特点
    真空镀膜和其他镀膜方式相比较具有以下特点：
1.真空镀膜可以在固态基体上镀制金属，合金，半导体薄膜及各种化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范围内调控。
2.真空镀膜可以镀制高纯度，高致密度，与基体结合力强的各种功能薄膜拜。特别是各种金属五金产品，大规模集成电路，小分子**显示器件等很多器件所需的主体薄膜只能在真空条件下制备，其他制模技术无法满足要求。
3.真空镀膜对环境无污染，特别是PVD方法。
4.真空镀膜是需要有真空设备来完成的镀膜，所以成本比较高，但真空镀膜产品耐磨性好，耐腐蚀，环保，产品可过ROHS测试。